觀點 · 資訊 · 技術(shù) · 知識 MEMS,又叫微機電系統(tǒng),是建立在微米/納米技術(shù)基礎(chǔ)上,對材料進行設(shè)計、加工、制造、測量和控制的技術(shù)。它可將機械構(gòu)件、光學(xué)系統(tǒng)、驅(qū)動部件、電控系統(tǒng)集成為一個整體單元的微型系統(tǒng)。 根據(jù)Yole研究預(yù)測,全球MEMS器件市場規(guī)模將從2020年的121億美元增長至2026年的約182億美元,復(fù)合增長率為7.2%。預(yù)計到2026年,10億美元以上的MEMS細分領(lǐng)域包括射頻類MEMS器件、MEMS慣性器件、MEMS壓力傳感器、MEMS聲學(xué)傳感器等。(引自GPLP犀牛財經(jīng)) 愛發(fā)科的MEMS技術(shù)主要面向壓電MEMS以及非制冷紅外傳感,本篇主要介紹其中的濺射環(huán)節(jié)。 壹 壓電薄膜 愛發(fā)科PZT濺射技術(shù)的發(fā)展 ? x15 FOM 持續(xù)改善@15 years ※FOM = 擊穿電壓 V x 壓電系數(shù) C/m2 2.0μm-PZT薄膜的壓電系數(shù)和擊穿電壓 ?提高了壓電系數(shù)|e31| : 14.7 →15.5 C/m2 ?顯著提高的擊穿電壓: ~100 →>200 V 經(jīng)時介電擊穿(TDDB)性能大幅提高 卓越的量產(chǎn)制造能力 ?Qualified deposition rate and Pb composition ?ULVAC設(shè)備另一大優(yōu)勢是穩(wěn)定的量產(chǎn)可靠性 貳 VOx熱敏電阻薄膜 TCR絕對值>2.3%/K 工作溫度區(qū)間內(nèi)無遲滯 厚膜VOx特性優(yōu)化 ?Normal 60nm ?Thicker 120nm 熱穩(wěn)定性優(yōu)化 ?新型硬件提高了250°C下的熱穩(wěn)定性 量產(chǎn)穩(wěn)定性 ?出色的WIW和WTW電阻均勻性 愛發(fā)科濺射設(shè)備 SME-200和uGmni系列 ?晶圓制造用濺射設(shè)備新機型,約300臺銷售業(yè)績 ?可用于各種材料成膜(金屬、PZT、BST、AlN、SiNx、Al2O3) ?在諸多領(lǐng)域取得了行業(yè)領(lǐng)先的成果 SME-200 uGmni系列 ![]() |
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來自: will1998 > 《真空設(shè)備》