鍍層厚度是可以通過(guò)電沉積參數(shù)進(jìn)行計(jì)算的，由電流效率公式可以得到：

   同時(shí)，所得金屬鍍層的重量也可以用金屬的體積和它的密度計(jì)算出來(lái)：

式中V—金屬鍍層的體積，cm3；S—金屬鍍層的面積，cm2；δ金屬鍍層的厚度，cm；r-金屬的密度，g／cm3。

   由于實(shí)際科研和生產(chǎn)中對(duì)鍍層的量度單位都是用的微米(µm)，而對(duì)受鍍面積則都采用平方分米(dm2)做單位，這樣，當(dāng)我們要根據(jù)已知的各個(gè)參數(shù)來(lái)計(jì)算所獲得鍍層的厚度時(shí)，需要做一些換算。

   由ldm2=100cm2，lcm=10000µm可得到：

將M′=Kltη代入上式得：

   電鍍過(guò)程中是以電流密度為參數(shù)的，也就是單位面積上通過(guò)的電流值。為了方便計(jì)算，根據(jù)電流密度的概念，D=1／S，可以將上式中的l／S換成電流密度D。而電流密度的單位是A／din2，考慮到電鍍是以min計(jì)時(shí)間，代人后得：

   這就是根據(jù)所鍍鍍種的電化學(xué)性質(zhì)(電化當(dāng)量和電流效率)和所使用的電流密度和時(shí)間進(jìn)行鍍層厚度計(jì)算的公式。

   根據(jù)這個(gè)公式，可以計(jì)算出在一定電流密度下電鍍一定時(shí)間的鍍層厚度，也可以計(jì)算要鍍得某個(gè)厚度需要多少時(shí)間。