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PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區(qū)別解讀

 Long_龍1993 2020-02-16
 2017-12-05 08:59:30

在手機蓋板領域,PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來越廣,無論在金屬、玻璃、陶瓷及復合材料后蓋上,都需要PVD鍍膜,來提升手機蓋板的顏值及逼格,那么如何通過鍍膜來提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢?有哪些主流的工藝?今天我們來了解一下。

一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位?

1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜

2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜,增加手感,內(nèi)表面鍍顏色膜

3. 復合板材鍍反藍光(冰焰藍)

3. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區(qū)別

PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天,我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。

蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動能太低,填充密度太低。

電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機理:

影響種類 問題點 內(nèi)在機理
溫度 成膜溫度影響產(chǎn)品顏色 溫度高填充密度高,漂移少
真空室氧化能力的影響 大清洗前波長偏長,之后偏短 *水蒸氣可以認為就是氧氣。
*鍍膜速度直接影響氧化能力,
即膜層中金屬或低價氧化物的比例。
*從坩堝里蒸發(fā)出來的物質(zhì)是高價氧化物、
低價氧化物和金屬單體的混合物,更多的金屬
單體或低價氧化物在充大氣后會俘獲更多的
氧原子,使膜層致密。
空氣濕度大時膜層顏色不好控制

開爐時間長波長偏長

鍍膜慢波長偏長

膜料分解狀況的影響 貌似電子槍光斑大小有影響 *光斑位置影響光斑大小。
*燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。
*掃描足夠快時是面蒸發(fā),慢時依舊點蒸發(fā),
這當然也相當于“光斑大小”問題。
*光斑小,蒸發(fā)區(qū)域溫度高,材料分解嚴重,
金屬單體和低價氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影響

貌似燈絲變形也有影響

貌似掃描快慢也有影響

………

磁控濺射鍍膜,通過在靶材與真空室壁之間施加電場,使氬氣電離,并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊,靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面,原子動能較蒸發(fā)高出兩個數(shù)量級,填充密度高達98%,折射率高且穩(wěn)定。  

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