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地質(zhì)剖面及地球化學(xué)剖面測(cè)制(附:剖面測(cè)繪專輯)

 昵稱52607891 2018-04-11



地質(zhì)剖面及地球化學(xué)剖面測(cè)制


資料來源于互聯(lián)網(wǎng),未校核,僅供參考。

一、地質(zhì)剖面測(cè)制

地質(zhì)填圖前的地質(zhì)剖面測(cè)制以及地化、地物剖面測(cè)量中的地質(zhì)工作,均按此要求執(zhí)行。

(一)剖面選擇和布置原則

1、在分析前人資料、詳細(xì)踏勘和全面了解工作區(qū)內(nèi)巖石、地層出露與分布情況、基本構(gòu)造格架和構(gòu)造形態(tài)發(fā)育情況的基礎(chǔ)上選擇剖面。地質(zhì)剖面應(yīng)布置在巖層及巖相出露較完整、基巖露頭好、標(biāo)志層發(fā)育、構(gòu)造變動(dòng)較小地段。預(yù)查、普查階段或異常查證時(shí)應(yīng)盡量選擇在異常濃集區(qū)??傊x擇的剖面位置其地質(zhì)特征在全區(qū)應(yīng)具有代表性。

2、剖面的布置應(yīng)基本垂直區(qū)域地層或構(gòu)造線走向、異常長(zhǎng)軸方向。在地質(zhì)情況復(fù)雜地段,剖面總方向和地層走向夾角應(yīng)不小于60度。若遇地形復(fù)雜、通行條件差的情況時(shí),沿巖層走向可左右平移剖面實(shí)測(cè)位置,平移時(shí)注意巖層層位銜接。

   3、剖面起點(diǎn)的選擇及在圖上的擺布方法:

①北西向(27l—359度)—南東向(9l—179度)剖面以北西端作為起點(diǎn)測(cè)制,并置于圖左方,南東端置圖右方。

②北東向(1—89度)—南西向(18l—269度)剖面以南西端作為起點(diǎn)測(cè)制,并置于圖左方,北東端置右方。

③東西向(90—270度)剖面以西端作為起點(diǎn)并置于圖左方,東端置圖右方。

④南北向(0—180度)剖面以南端作為起點(diǎn)并置于圖左方,北端置圖右方。

   4、圖切剖面在圖中的擺布方法同上,圖切剖面比例尺與地質(zhì)圖比例尺應(yīng)相同。

(二)剖面測(cè)制及精度要求

   1、剖面比例尺應(yīng)根據(jù)剖面性質(zhì)及研究目的等具體情況而定:地質(zhì)剖面一般采用1∶500—1∶2000;地物化綜合剖面以設(shè)計(jì)規(guī)定為準(zhǔn)。

   2、首先用GPS(有條件時(shí)采用經(jīng)緯儀)將剖面線起點(diǎn)準(zhǔn)確標(biāo)定于地形圖或航空照片上,然后開始用導(dǎo)線法進(jìn)行剖面測(cè)量。地形剖面和地質(zhì)測(cè)繪應(yīng)同時(shí)進(jìn)行,按導(dǎo)線順序詳細(xì)觀察,正確劃分層位界線。分層精度要求:原則上以相應(yīng)比例尺圖面為l毫米的地質(zhì)體應(yīng)分出,但標(biāo)志層、礦層等有特殊意義的地質(zhì)體,雖圖面不足l毫米,但也應(yīng)分出并夸大表示。

3、按剖面測(cè)制記錄表逐項(xiàng)填好各項(xiàng)測(cè)量數(shù)據(jù),用剖面地質(zhì)記錄本逐層進(jìn)行地質(zhì)觀察描述。剖面地質(zhì)記錄本與剖面登記表中的相關(guān)文字記錄應(yīng)一致。為了便于成圖,應(yīng)同時(shí)繪制信手剖面,對(duì)導(dǎo)線范圍內(nèi)一些局部的地形變化予以反映;一些特殊的地質(zhì)現(xiàn)象應(yīng)在記錄本中繪制大比例尺素描圖。

4、逐層采集巖礦石標(biāo)本、光薄片樣品、化石標(biāo)本。標(biāo)本樣品按統(tǒng)一圖例標(biāo)注于剖面圖及登記表中。剖面起止點(diǎn)應(yīng)反復(fù)交會(huì)檢查。

5、計(jì)算剖面導(dǎo)線平距及測(cè)點(diǎn)高程等數(shù)據(jù);剖面地層厚度計(jì)算采用萬能公式。

    D=L(Sinαc0sβsinγ±  c0sαsin β  )

      式中:D—巖層真厚度

          L—斜距

          α—真傾角

          β—坡度角

          γ—剖面方向與巖層走向夾角

   當(dāng)?shù)匦纹孪蚺c巖層傾向相反時(shí)用 “+”。

   當(dāng)?shù)匦纹孪蚺c巖層傾向相同時(shí)用 “ - ”。

(三)地質(zhì)剖面圖的繪制

實(shí)測(cè)剖面圖的成圖方法一般采用投影法,當(dāng)剖面導(dǎo)線方位較穩(wěn)定(即導(dǎo)線方位與總方位基本一致)時(shí)用也可采用展開法作圖。投影法作圖方法如下:

1、野外繪制剖面手圖:在圖紙適當(dāng)?shù)奈恢蒙线x定剖面的起點(diǎn)0,以通過0的水平線作為剖面總方位。從0點(diǎn)開始,根據(jù)導(dǎo)線測(cè)量長(zhǎng)度及方位繪制導(dǎo)線平面圖;以導(dǎo)線總方向?yàn)榛鶞?zhǔn),根據(jù)各導(dǎo)線方向與總導(dǎo)線方向夾角采用二次投影到總方位基準(zhǔn)線上,在導(dǎo)線上方按其投影所得高差確定剖面地形線上的高差(h),然后應(yīng)根據(jù)實(shí)際地形細(xì)節(jié),將其勾繪成真實(shí)曲線(見圖2-1)。

2、室內(nèi)整理清圖時(shí)根據(jù)所計(jì)算出的導(dǎo)線水平距和高差用垂直投影法依次取得各導(dǎo)線的投影,將各導(dǎo)線點(diǎn)的投影結(jié)合手圖地形連成圓滑的曲線即得地形剖面線。成圖之前利用導(dǎo)線水平長(zhǎng)度加權(quán)的方法計(jì)算出剖面實(shí)際總方位。

3)按地質(zhì)分層在平面圖上繪制導(dǎo)線地質(zhì)平面圖并標(biāo)上各種地質(zhì)要素(地質(zhì)平面圖以導(dǎo)線為軸線寬度2cm);將各導(dǎo)線上地質(zhì)要素二次投影到水平基準(zhǔn)線上,再垂直投到地形剖面上。繪制地質(zhì)剖面圖填繪巖性花紋時(shí),用計(jì)算出的視傾角按規(guī)定的花紋、圖例逐層填繪,當(dāng)?shù)貙幼呦蚺c剖面方向垂直時(shí),則用真傾角填繪,花紋應(yīng)該根據(jù)層厚按有關(guān)規(guī)范表示,花紋的寬度要適中,一般寬為3毫米。

    (4)剖面圖上花紋線段的長(zhǎng)度應(yīng)統(tǒng)一,一般群以上的地層間界線長(zhǎng)度為2厘米,巖組間界線長(zhǎng)1.5厘米,花紋線長(zhǎng)1厘米。

(5)產(chǎn)狀垂直標(biāo)注在產(chǎn)狀測(cè)量點(diǎn)上的相應(yīng)位置,垂線長(zhǎng)2厘米,

產(chǎn)狀標(biāo)注線長(zhǎng)0.8厘米,上為傾向,下為傾角,右上角標(biāo)“°”。

(四)實(shí)測(cè)剖面圖的格式和其他要求

1、實(shí)測(cè)剖面圖的格式見圖2-2。

2、剖面圖垂直比例尺為剖面起點(diǎn)的實(shí)地標(biāo)高。

3、根據(jù)圖面大小確定剖面圖、導(dǎo)線平面圖、水平標(biāo)尺之間的距離,以圖面結(jié)構(gòu)合理協(xié)調(diào)為原則。

4、圖例規(guī)格統(tǒng)一采用12×8毫米。圖簽的選擇視圖大小而定,置于圖幅右下角,一般采用ll×5.6厘米,小圖采用9×4.9厘米。

(五)地質(zhì)剖面的研究

剖面測(cè)制完成后要對(duì)剖面資料進(jìn)行詳細(xì)的野外研究,研究的重點(diǎn)是劃分地質(zhì)填圖單元,統(tǒng)一工作人員對(duì)工作區(qū)地質(zhì)特征的認(rèn)識(shí),為地質(zhì)填圖工作做好準(zhǔn)備。具體內(nèi)容包括:

1、正確劃分填圖單位,利用巖石地層學(xué)劃分巖組或巖性,建立地層層序(包括火山巖);

2、對(duì)巖漿巖類侵入巖在總結(jié)巖性、組構(gòu)、巖漿演化特征以及接觸關(guān)系、巖相標(biāo)志的基礎(chǔ)上劃分巖石譜系單位;

3、變質(zhì)巖劃分變質(zhì)相帶;

4、初步確定含礦層位、控礦構(gòu)造因素、巖漿巖成礦專屬性等。

5、在上述研究工作基礎(chǔ)上形成剖面工作小結(jié)。

二、地球化學(xué)剖面測(cè)制

地球化學(xué)剖面測(cè)量工作是地質(zhì)、化探工作相結(jié)合的綜合找礦方法,也是在預(yù)查、普查階段應(yīng)用較廣并行之有效的手段之一,其主要目的是解剖物化探異常、進(jìn)行礦化定位、了解地質(zhì)體(地層、巖漿巖、構(gòu)造破碎帶、蝕變帶等)含礦性,為工程揭露、驗(yàn)證提供依據(jù)。

根據(jù)礦產(chǎn)勘查工作性質(zhì)、目的的不同,所采用的比例尺亦不同,一般采用1∶1萬、1∶5千和1∶2千三種,根據(jù)工作區(qū)基巖出露和土壤發(fā)育程度不同,采樣介質(zhì)選擇巖石和土壤兩種類型。具體要求如下:

(一)布置原則

1、地質(zhì)—巖石剖面:1∶5千、1∶1萬地質(zhì)—巖石剖面布置在基巖出露好的地段,一般應(yīng)垂直于地層走向或構(gòu)造線、異常長(zhǎng)軸方向。1∶2千地質(zhì)—巖石剖面著重于對(duì)礦化構(gòu)造破碎蝕變帶、礦化帶的控制。

2、地質(zhì)—土壤剖面:布置在基巖出露不好的地段,適用于殘坡積物、土壤發(fā)育或較發(fā)育的地區(qū),用于確定覆蓋層下含礦地質(zhì)體的位置。布置時(shí)應(yīng)垂直目標(biāo)異常長(zhǎng)軸方向。

(二)測(cè)制方法

羅盤定向、皮尺量距,按2.1的要求測(cè)制地質(zhì)剖面。按不同巖性,礦化蝕變類型等進(jìn)行詳細(xì)合理分層。土壤測(cè)量時(shí),對(duì)土壤覆蓋較厚地段,盡量要以地表轉(zhuǎn)石和樣品采坑中出現(xiàn)的巖石碎塊等為依據(jù),大致劃分不同的巖性層。

(三)樣品采集

1、巖石剖面:不同比例尺的剖面采樣要求不一。1∶1萬、1∶5千地化剖面采用連續(xù)揀塊法采集,樣點(diǎn)間距(水平間距)分別為20米、l0米;1∶2千地化剖面采用刻線法采集,樣點(diǎn)間距(水平間距)2—5米。不同巖性應(yīng)分別采樣,對(duì)礦化蝕變明顯的地質(zhì)體,要有針對(duì)性的進(jìn)行加密采樣。對(duì)各采樣點(diǎn)在實(shí)地要有標(biāo)記,用油漆標(biāo)注樣品編號(hào)。巖石樣送樣重量不小于300克。

2、土壤剖面:樣品在采樣點(diǎn)周圍按點(diǎn)距的l/l0范圍內(nèi)采樣。樣品可由一處或由數(shù)處組成。遇巖石露頭、廢石堆、沼澤、崩積物、河床堆積、水田等不能取土壤樣時(shí)可棄點(diǎn),但在記錄中應(yīng)注明。同一條剖面應(yīng)盡量采取同一層位的同一介質(zhì),一般應(yīng)采取距地表20—50cm深處土壤的B層(淋積層)或C層(母質(zhì)層)中的細(xì)粒級(jí)物質(zhì)。在風(fēng)成物發(fā)育地區(qū)要排除風(fēng)成粒級(jí),對(duì)未作過土壤測(cè)量的空白地區(qū),應(yīng)在工作前進(jìn)行深度和粒度實(shí)驗(yàn),選定合適的采樣深度和粒級(jí)。樣品要按《土壤地球化學(xué)測(cè)量規(guī)范》要求進(jìn)行野外加工,送交實(shí)驗(yàn)室的樣品重量不小于200克。

對(duì)剖面上的所有樣品應(yīng)及時(shí)送樣分析,對(duì)于以金等為主攻礦種的地區(qū),樣品應(yīng)進(jìn)行快速分析,以指導(dǎo)找礦。

(四)剖面記錄

采用野外地質(zhì)記錄本和實(shí)測(cè)剖面登記表,在野外隨剖面測(cè)制的進(jìn)度詳細(xì)記錄,內(nèi)容要全面、翔實(shí)、完整,各要素齊全。特別要注重礦化蝕變特征的觀察和記錄,對(duì)重要的地質(zhì)現(xiàn)象要做必要的素描和照像。

剖面巖石、土壤樣品記錄在野外地質(zhì)記錄本及實(shí)測(cè)剖面登記表中,樣品位置及編號(hào)要清晰、準(zhǔn)確。

(五)地化剖面圖的繪制

按圖2-2的格式執(zhí)行。著重注意以下幾點(diǎn):

1、樣品標(biāo)注在采樣段的中點(diǎn),為了減輕圖面負(fù)擔(dān),地質(zhì)剖面上只標(biāo)注首尾及每隔5個(gè)樣(如y1、y6、y11…)的樣品位置及編號(hào);而在地質(zhì)剖面圖頂部第一個(gè)元素含量曲線圖的縱坐標(biāo)線上標(biāo)注全部樣點(diǎn),樣號(hào)同樣每隔5個(gè)樣標(biāo)注一次。

2、元素含量曲線用不同顏色的線條表示,元素曲線中特高品位要標(biāo)注數(shù)據(jù),曲線不封閉。

(六)圖名確定

1、剖面涉及到地質(zhì)測(cè)量、巖石測(cè)量?jī)身?xiàng)內(nèi)容的統(tǒng)一為:

   ×××礦區(qū)(異常區(qū))YP×地質(zhì)—巖石地球化學(xué)剖面圖

2、剖面涉及到地質(zhì)測(cè)量、土壤測(cè)量?jī)身?xiàng)內(nèi)容的統(tǒng)一為:

   ×××礦區(qū)(異常區(qū))TP×地質(zhì)—土壤地球化學(xué)剖面圖

3、剖面涉及到地質(zhì)、物探、化探(巖石、土壤)三項(xiàng)內(nèi)容的統(tǒng)一為:

   ×××礦區(qū)(異常區(qū))ZP×地物化綜合剖面圖

4、單一工作方法手段的剖面就以某一方法手段為主統(tǒng)一圖名

地質(zhì)測(cè)量:×××礦區(qū)(異常區(qū))DP×地質(zhì)剖面圖

土壤測(cè)量:×××礦區(qū)(異常區(qū))TP×土壤地球化學(xué)剖面圖

巖石測(cè)量:×××礦區(qū)(異常區(qū))YP×巖石地球化學(xué)剖面圖等

5、剖面代號(hào)統(tǒng)一為:

地質(zhì)剖面—DP    土壤剖面(包括地質(zhì)—土壤剖面)—TP 

巖石剖面(包括地質(zhì)—巖石剖面)—YP   地物化綜合剖面—ZP


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