慧聰表面處理網(wǎng)：由于鋅合金的電極電位較負，在堿和酸溶液中能發(fā)生化學反應，尤其在滾鍍作業(yè)時，形狀復雜而密集，滾鍍鎳極易受鋅污染，檸檬酸鹽鍍鎳克服了鋅合金鑄件滾鍍的難題。我們東威公司專注鋅合金電鍍，為此對中性鎳工藝進行了一些有益的探索。

    目前工廠現(xiàn)用的一般中性鎳工藝比較：

    配方一：成分簡單，成本低?？刂坪唵?，鍍層顏色稍暗?？刂撇缓萌菀缀准闯恋?，處理周期短。

    配方二：雙絡合劑型。是配方一的改進型。特點；雙絡合劑大大降低了鎳離子的有效濃度，減少了鋅鎳的置換反應，減少了鋅在鍍液中化學反應。缺點：鍍液檸檬酸鈉︰硫酸鎳=1.2︰1，陽極溶解性差。鍍液濃度高，成本高，比重大，滾鍍帶出量大。另外鍍液的分散能力和深度能力都有所下降。鍍層顏色同樣稍暗。

    為此我們通過大量的實驗和摸索，找到一種新型的復合型絡合劑。

    新型中性鎳電鍍工藝經(jīng)生產(chǎn)使用后發(fā)現(xiàn)如下特點：

    鍍液PH值為6.2-6.8左右，室溫使用，鍍液除使用檸檬酸鈉做絡合劑外，還添加使用我們自己研制的復合型絡合劑，鎳的陰極極化顯著提高，鍍液分散能力改善，鍍層細致平滑比一般中性鎳鍍層白皙。渾濁鍍液加入開缸劑立即潔凈、清澈！

    我們做過如下實驗：取一燒杯鍍液，將鋅板放于燒杯鍍液中過夜，第二天再取藥水打片，電流0.5安培，依然沒有發(fā)黑問題。因此對鋅及鋅合金腐蝕極小，甚至不腐蝕。所以，使用該鍍液，對堿銅打底鍍層厚度和致密性要求相比原先一般中性鎳鍍液，沒有那么嚴格，比一般中性鎳鍍液更不易腐蝕鋅合金層。生產(chǎn)中工廠工人只要堿銅光亮就可以進行鎳缸電鍍，不會像原先的中性鎳一樣堿銅厚度不夠、不致密、鍍后鍍層就會出現(xiàn)長黑點和燒頭的問題，縮短了電鍍堿銅時間。鍍層的光亮性比原先的中性鎳細亮、更白。當然光亮度主要還是有賴于堿銅的亮光。而東威公司的堿銅DW-5和DW-2配合，可以在短時間讓堿銅光亮，適應這方面的要求。筆者曾經(jīng)寫過這方面的文章進行過論述。筆者在工廠現(xiàn)場實驗堿銅電鍍15分鐘然后下鍍中性鎳，電鍍產(chǎn)品也沒有發(fā)黑點現(xiàn)象。（這里指的是拉鏈頭長版產(chǎn)品，這種產(chǎn)品平時堿銅不夠厚就容易發(fā)黑點。）

    將這種工藝用在電鍍啞鎳方面取得很好的經(jīng)濟效益。因為滾鍍啞鎳工序大都為；先通過使用刷色粉將產(chǎn)品打啞，然后電鍍堿銅，再電鍍中性鎳，這樣電鍍處理出來的產(chǎn)品又啞又均勻。這種工藝要求電鍍堿銅要厚，致密，不然隨后電鍍鎳會起黑點。而使用我們這種中性鎳則對銅鍍層的厚度和致密性要求不嚴格，所以降低成本明顯。

    當然，電鍍后封閉劑還是必須的。東威公司DW-fb10水性封閉劑只要在最后的熱水中加入10-20ml/L即能起到很好的保護效果。

    本工藝可以進行電鍍鋅然后進行鎳電鍍，不發(fā)黑?？梢話戾円部梢詽L鍍。我們將鋅合金產(chǎn)品電鍍鋅后通過出光，再電鍍鎳，產(chǎn)品光亮，清爽，滾鍍滾筒里導線頭白亮，說明低電位沒有發(fā)黑現(xiàn)象。產(chǎn)品經(jīng)保護后防護性能比直接鍍鎳的好。

    二、金華東威公司中性鎳電鍍工藝條件：

    三、鍍液配制：

    先在鍍槽注入2/3的水，加入檸檬酸鈉至完全溶解，再邊攪拌依次邊加入硫酸鎳，氯化鈉。每樣原料都應該溶解完再加另外一種原料。加入氫氧化鈉調(diào)整PH到6.8，如果原料不純，則應該活性碳處理。活性炭處理后過濾，加水到規(guī)定的體積，加入光亮劑即可試鍍。

    四、鍍液維護及故障處理：

    平時應該保持硫酸鎳與檸檬酸鈉的質(zhì)量比。硫酸鎳︰檸檬酸鈉=1.2︰1比例。檸檬酸鈉太高時鍍層亮光受影響。我們將硫酸鎳含量提高有利于鍍層亮光。開缸劑只是補加硫酸鎳時補給，平時只要補加光亮劑即可。輔助劑在走位差或者鍍液發(fā)黑時補給。

    1.檸檬酸鈉太高時，鍍久后有霧，鍍層光澤差?？梢约尤肓蛩徭?，或者中性鎳開缸劑、光亮劑。

    2.鍍層不白，可能硫酸鎳或開缸劑，或輔助劑太少?；蛘邷囟忍?。

    結(jié)論：金華東威表面處理科技有限公司開發(fā)的中性鎳工藝，對鋅及其合金有較低腐蝕性?？梢赃M行鋅上直接滾鍍鎳。使用在銅上電鍍鎳工藝時，可以降低銅鍍層的厚度而鍍層不致發(fā)黑，鍍層更白皙。

    現(xiàn)在本工藝已經(jīng)在工廠生產(chǎn)中使用了一段時間了，目前生產(chǎn)比較順利，當然有些問題可能還沒有暴露出來，歡迎同行一起來探討！

    參考文獻；陳天玉：光亮鍍鎳：342-345    

責任編輯：侯俊梅